-
![Teollinen MOCVD-järjestelmä]()
Teollinen MOCVD-järjestelmäNizzan-Tech CV600/CV700-sarjat ovat huippuluokan-massa-tuotantoon tarkoitettuja MOCVD-laitteita yhdistepuolijohteiden epitaksiaaliseen kasvuun. Ne käyttävät patentoitua planetaarista-satelliitin kaksoiskiertotekniikkaa moni-kiekkojen...Katso lisää -
![Vakio MOCVD-järjestelmä]()
Vakio MOCVD-järjestelmäNizzan-Tech MC150/MC200/MC300-sarjan MOCVD-laitteet ottavat käyttöön tiiviisti-kytketyn pystysuoran suihkupään kaasuruiskutusmallin, jossa on luontaiset epitaksiaaliset tasaisuusedut korkean-tiheyden porrastetun kaasulähteen...Katso lisää -
![IBD-järjestelmä]()
IBD-järjestelmäTämä ionisuihkupinnoituslaitteisto on erittäin{0}}tarkka ohutkalvopinnoitusjärjestelmä, joka on suunniteltu metallilangan ja ohmisen kosketusohutkalvojen valmistukseen infrapunalaitteiden valmistuksessa.Katso lisää -
![Kaksikammioinen-magneettisputterointijärjestelmä]()
Kaksikammioinen-magneettisputterointijärjestelmäTämä kaksikammioinen{0}}magnetronisputterointijärjestelmä on suunniteltu erityisesti infrapunapolttotason laitteiden valmistusta varten. Sen päätehtävä on levittää ZnS/CdTe-komposiittipassivointikalvoja HgCdTe-epitaksiaalisille...Katso lisää -
![Pystysuuntainen LPE-järjestelmä]()
Pystysuuntainen LPE-järjestelmäTämä pystysuora nestefaasiepitaksiuuni on rakennettu HgCdTe-ohut-kalvomateriaalien neste{0}}faasiepitaksiaaliseen kasvuun, ja siinä keskitytään As-seostettujen P--tyyppisten materiaalien tuottamiseen, joita käytetään...Katso lisää -
![Vaakasuora LPE-järjestelmä]()
Vaakasuora LPE-järjestelmäHorizontal Liquid Phase Epitaxy Furnace on erityinen prosessilaitteisto, joka on rakennettu HgCdTe-ohutkalvojen nestefaasin epitaksiaaliseen kasvuun.Katso lisää -
![Hiilimagneettiruiskutusjärjestelmä]()
HiilimagneettiruiskutusjärjestelmäHiilikalvosputterointilaitteistomme on erityinen järjestelmä, joka on suunniteltu korkean lämpötilan{0}}hiilikalvosuojakerrosten kerrostamiseen piikarbidilaitteille. Se käyttää klusteriarkkitehtuuria, joka voidaan konfiguroida useilla...Katso lisää -
![GaN-MOCVD]()
GaN-MOCVDGaN-MOCVD on erikoistunut epitaksiaalinen kasvulaite, joka on suunniteltu korkealaatuisten-galliumnitridin (GaN) ja vastaavien yhdistepuolijohdeohutkalvojen kerrostamiseen.Katso lisää -
![MOCVD]()
MOCVDMetal{0}}Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD) -laitteistomme on keskeinen valmistustyökalu, joka on tarkoitettu korkealaatuisten-epitaksiaalisten materiaalien pinnoittamiseen. Se on ammattimaisesti suunniteltu galliumarsenidin...Katso lisää -
![Pystysuuntainen LPCVD-järjestelmä]()
Pystysuuntainen LPCVD-järjestelmäVertical LPCVD TEOS/Poly/SiN on matalapaineinen-kemiallinen höyrypinnoitusjärjestelmä puolijohteiden valmistukseen. Sitä käytetään korkealaatuisten -poly-, TEOS-, SiN- ja HTO-ohutkalvojen tallentamiseen.Katso lisää -
![Magnetronin ruiskutusjärjestelmä]()
Magnetronin ruiskutusjärjestelmäTämä magnetronisputterointijärjestelmä on rakennettu metalliohutkalvopinnoitukseen puolijohteiden valmistuksessa. Sitä käytetään laajasti integroiduissa piireissä, teholaitteissa ja edistyneissä pakkauksissa.Katso lisää -
![MBE-järjestelmä]()
MBE-järjestelmäMolecular Beam Epitaxy (MBE) -järjestelmämme on erittäin -tarkkuus epitaksiaalinen kasvulaitteisto, joka on tarkoitettu yhdistelmäpuolijohdemateriaaleille, erityisesti ultra-ohuille heterorakennemateriaaleille. Sitä käytetään pääasiassa...Katso lisää
Yhtenä ammattimaisimmista ohutkalvopinnoituslaitteiden valmistajista ja toimittajista Kiinassa, meillä on laadukkaat tuotteet ja hyvä hinta. Voit olla varma, että ostat mukautettuja ohutkalvopinnoituslaitteita tehtaaltamme. Ota yhteyttä nyt tarjouksen ja hinnaston saamiseksi.
