Tuotekatsaus

Yrityksemme kolme PVD-tekniikkaan perustuvaa magnetronisputterointilaitetta, jotka kaikki tallettavat korkealaatuisia-metalli-, dielektrisiä ja puolijohdekalvoja, mutta eroavat sovelluskohteen suhteen.

Otetaan teollinen yksikammio Se käsittelee 8 tuuman kiekkoja saumattomasti, ja se täyttää yhtenäiset teollisen tuotannon vaatimukset.

Sitten on teollinen monikammio{0}}versio, joka käyttää modulaarisia, itsenäisiä kammioita (kuten lämmitystä, sputterointia ja paljon muuta) automatisoimaan koko pinnoitusprosessin.

Se on peli-muuttaja monimutkaisten monikerrosfilmien-massatuotantoon, mikä vähentää manuaalista puuttumista. Tutkimus-luokan kone puolestaan on suunniteltu erityisesti yliopistoja ja tutkimuslaitoksia varten. Se tarjoaa joustavia asetuksia,-kuten moni-kohderuiskutus-pienen-t&k-erän suorittamiseen, olipa kyseessä piikarbidimateriaalit tai kvanttisirun prototyypit. Pysymme kaikissa kolmessa "käsityön laatua" koskevassa sitoumuksessamme ja varmistamme, että ne vastaavat puolijohdeteollisuuden erilaisia tarpeita.

Ota meihin yhteyttä saadaksesi parhaan ratkaisun sinulle.

Sovellukset

Yrityksemme kolmella Magnetron Sputtering Equipment Equipment -laitteella on kullakin oma niche{0}}, jotka kattavat kaikki puolijohdeteollisuuden tarpeet.

Otetaan teollinen yksikammio 8- tuuman ohutkalvon valmistukseen se on nopea ja vakaa, sopii suoraan CMOS/IGBT-tuotantolinjoille ja saavuttaa sekä kapasiteetti- että tuottotavoitteet ilman ongelmia.

Teollinen monikammio{0}}erottuu joukosta täydellisellä automaatiolla ja kiinteällä integraatiolla. Ne monimutkaiset monikerroksiset kalvot 5G- ja optoelektronisille laitteille? Se käsittelee niitä helposti ja täyttää massatuotannon tiukat tarkkuusvaatimukset.

Sitten tutkimus-luokan malli-tämä on räätälöity yliopistojen T&K-toimintaan. Se tukee pienten -erien testejä uusille materiaaleille, kuten piikarbidille, ja toimii erittäin joustavana todennusalustana.

Edut

Kolme magneettiruiskutuslaitteistoamme tuovat kukin pöytään kohdistettuja vahvuuksia, jotka on räätälöity erilaisiin sovellusskenaarioihin:

1. Teollinen yksikammio-malli:

Se tekee suuria tuloksia korkealla käyttöasteella-leikkaamalla suoraan käyttökustannuksia. Käsiteltäessä 8-tuumaisia kiekkoja, se tarjoaa vakaan suorituskyvyn; kalvon tasaisuus pysyy ±3 %:n sisällä, mikä täyttää helposti teolliset tuottovaatimukset. Lisäksi sen suoraviivainen rakenne tekee ylläpidosta helppoa.

2. Teollinen monikammio-malli:

Modulaariset automatisoidut kammiot ovat sen ässää, mikä lisää tuotantotehokkuutta merkittävästi. Siinä on myös edistynyt hiukkasten hallinta, joka varmistaa huipputason-kalvon puhtauden-täydellinen 5G- ja optoelektronisissa laitteissa käytettävien monikerroksisten kalvojen-muokkaukseen. Lisäksi sen vahva integrointikyky mahdollistaa sen sopeutumisen monenlaisiin materiaaleihin saumattomasti.

3. Tutkimus-Arkistomalli:

Se on suunniteltu T&K-toimintaa ajatellen, ja se tarjoaa joustavia asetuksia, kuten moni{0}}kohderuiskutuksen uusiin materiaalikehitystarpeisiin. Mikrometri-tason tarkkuus tarjoaa luotettavan tuen prosessin varmentamiseen, ja sen pieni-eräkäsittely auttaa vähentämään T&K-kokeilukustannuksia-, mikä on ihanteellinen laboratoriotutkimukseen.

Parametrit

Tuote	Teollinen yksikammio{0}}malli	Teollinen moni{0}}kammiomalli	Tutkimus-Arkistomalli
Soveltuva kiekkokoko	8 tuumaa ja alle	6 tuumaa / 8 tuumaa	8 tuumaa ja alle
Lopullinen tyhjiö	8x10-5 Pa	2x10-5 Pa	-
Filmin yhtenäisyys	Vähemmän tai yhtä suuri kuin ±3 %	Vähemmän tai yhtä suuri kuin ±3 %	±3 % (4 tuuman kohde, 8 tuuman kiekko)
Alustan vaiheen lämpötilan hallinta	RT-650 astetta (tai jäähdytys)	-	RT-600 astetta (lämmitys tai jäähdytys)
Alustan vaiheen pyörimisnopeus	-	-	5-20 RPM
Sputterointimenetelmä	Yksittäinen{0}}kohde sputterointi	-	Yksi-kohde/ usean kohteen -peräkkäinen/yhteis{2}}sputterointi
Virtalähde	Valinnainen DC/RF/MF	-	Valinnainen DC/RF/MF
Avainkokoonpanot	Yhden prosessin kammio; Vähemmän tai yhtä suuri kuin 4 kohdease	Vähemmän tai yhtä suuri kuin 5 prosessikammiota (lämmitys, jäähdytys, sputterointi jne.)	Usean kohteen ruiskutus: esi-tyhjiökammio (valinnainen); näytepuhdistusmoduuli
Sovellettavat materiaalit	Pii, yhdisteet, keramiikka jne.	Pii, yhdisteet jne.	Metallit (Al, Au, Cu), dielektrit (SiO2, TaN), puolijohteet

FAQ

Kuinka valita kolmesta mallista?

Valitse 8-tuumaisten kiekkojen (esim. CMOS/IGBT) massatuotantoon teollinen yksi{5}}ontelomalli; valitse monimutkaisille monikerroksisille kalvoille 5G/optoelektroniikassa teollinen moniontelomalli; uusien materiaalien (esim. piikarbidi) tutkimukseen ja kehittämiseen yliopistoissa valitse tutkimusmalli.

Tukeeko se ei--pii-pohjaista materiaalipinnoitusta?

Kyllä, se tukee kaikkia, kattaa keramiikan, yhdistepuolijohteet, metallit (Al/Au), dielektriset (SiO₂) jne.

Voiko kiekkojen kokoa laajentaa?

Oletus on 8 tuumaa tai alle (6-8 tuumaa moni-ontelomallissa). Pienen mittakaavan laajennus voidaan räätälöidä etukäteen, mutta prosessin toteutettavuus on arvioitava.

Mitkä ovat kalvon paksuuden tasaisuuden testausolosuhteet Pienempi tai yhtä suuri kuin ±3 %?

Perustuu 8 tuuman kiekkoihin (4 tuuman + 8-tuumainen kohdekiekko tutkimusmallille), standardi metalli/dielektrinen kalvokerrostestaus. Optimointi on mahdollista eri materiaaleille/kalvopaksuuksille.

Onko asennuskoulutusta tarjolla?

Tarjoamme paikan päällä-asennuksen ja käyttöönoton sekä käyttö-/huoltokoulutuksen varmistaaksemme, että tiimi pääsee nopeasti alkuun.

Voidaanko laitteita päivittää myöhemmin?

Multi-ontelo- ja tutkimusmalleja voidaan päivittää kohdeaseilla/esi-tyhjiökammioilla; yhden-ontelomallien päivitysmahdollisuudet ovat rajalliset, joten suosittelemme määrittämään selkeästi pitkän aikavälin tarpeet alusta alkaen.

Kuinka pitkä toimitusjakso on? Voiko sitä nopeuttaa?

Yksittäiset-ontelo-/tutkimusmallit: 8-12 viikkoa; moniontelomallit: 12-16 viikkoa; nopea toimitus on neuvoteltavissa ja riippuu tuotantolinjan aikataulusta.

Onko alennuksia{0}}tuotannon jälkeisistä ylläpitokustannuksista?

Pääasiassa kohdemateriaaleille ja tarvikkeille. Kulutustarvikkeita tarjotaan vähintään 10 % alennuksella 5 vuoden ajan takuuajan jälkeen. Tarjoamme myös huolto-ohjeita kustannusten vähentämiseksi.

Suositut Tagit: magnetronisputterointilaitteet, Kiina magnetronisputterointilaitteiden valmistajat, toimittajat